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氢氟酸蒸汽腐蚀系统

HF-01

设备主要功能、技术指标和样品要求

使用方法
腐蚀氧化硅，释放悬空结构
主要技术指标
腐蚀速>100nm/min; 均匀性<±5%
备注
进行工艺的硅片，要求为完整的4英寸硅片，硅玻璃键合片及硅硅键合片,片子状况良好，无损伤，无穿孔。
收费标准
预约方式
管理人员及联系方式
庞俊
所属平台
MEMS技术平台
存放位置
待定

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