聚焦离子束显微分析仪

设备型号
Helios5Laser PFIB
设备简介

电子束、Xe离子束及激光束集一体的三束显微分析仪,主要用于截面表征,配合EDS可同时对截面结构进行成分分析;TEM样品制备,有效避免样品Ga污染;激光束主要用于大尺度(毫米级)截面样品加工,其适用于各类材料研究,能够实现深埋结构切割观察。

技术指标
样品表面形貌成像;大尺寸截面表征,结合EDS可同时对截面/表面进行成分分析:TEM样品制条(有效避免样品Ga污染);STEM高分辨表征纳米级形貌/膜层厚度;微纳加工等。

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