场发射透射电子显微镜

设备型号
Talos F200XG2
设备简介

冷场场发射透射电镜,核心优势在于超高空间分辨率(可达亚埃级别)和出色的分析性能,能对材料的微观结构、成分和电子态进行原子尺度的精准表征。它可以获得非晶材料的质厚衬度像,多晶材料的衍射衬度像和单晶薄膜的原子像,可以表征材料位错结构,孪品等。

技术指标
1)加速电压0-200kV;2)超亮冷场光源,电子枪亮度2.4*109A/c㎡/sr@200kV;3)信息分辨率0.11nm,STEM分辨率0.14mm

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    所级中心拟通过统筹规划、优化资源配置,加强技术支撑系统建设,建立装备一流、管理一流、技术服务一流的所级公共技术服务中心,实现仪器设备的高效共享利用。 沪ICP备05005483号-1