高真空复合电子束蒸镀系统

设备型号
E550
设备简介
采用高能电子束或者电阻加热将坩埚内源材料蒸发沉积到基片上，速率1~10Å/s可调，晶振厚度监控。金属源有Ti、Au、Pt、Al、Ni、Ge、Cr、Ag等。
技术指标
1)基片尺寸：最多容纳3个八英寸晶圆，兼容小片；2)极限真空:1E-7Torr；3)不均匀性≤土3%


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