离子束光学镀膜系统

设备型号
Veeco Specior
设备简介
采用高能Ar+离子轰击靶材表面,使靶材原子溅射并沉积于基片,实现高精度光学薄膜沉积,适用于最大12英寸基片,兼容小片;配置靶材膜系:SiO2,Ta2O5,膜厚不均匀性≤±0.5%。
技术指标
1)基片大小:最大12英寸,兼容小片;2)极限真空:≤8.0x10-8Torr;3)沉积速率:Ta2O5≥1.5Å/s,SiO2,1.2Å/s;4)不均匀性:≤±0.5%



附件下载:

    所级中心拟通过统筹规划、优化资源配置,加强技术支撑系统建设,建立装备一流、管理一流、技术服务一流的所级公共技术服务中心,实现仪器设备的高效共享利用。 沪ICP备05005483号-1