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仪器设备
材料器件工艺与表征平台拥有器件制备、材料验证和表征测试等先进微纳加工与表征测试设备,具备长期技术积累与专业服务能力,能满足射频、光电、压电、生物传感等多种核心功能器件与新型前沿交叉器件加工制备与表征测试需求。
离子束光学镀膜系统
设备型号
Veeco Specior
设备简介
采用高能Ar
+
离子轰击靶材表面,使靶材原子溅射并沉积于基片,实现高精度光学薄膜沉积,适用于最大12英寸基片,兼容小片;配置靶材膜系:SiO
2
,Ta
2
O
5
,膜厚不均匀性≤±0.5%。
技术指标
1)基片大小:最大12英寸,兼容小片;2)极限真空:≤8.0x10
-8
Torr;3)沉积速率:Ta
2
O
5
≥1.5
Å
/s,SiO
2
,1.2
Å
/s;4)不均匀性:≤±0.5%
附件下载:
所级中心拟通过统筹规划、优化资源配置,加强技术支撑系统建设,建立装备一流、管理一流、技术服务一流的所级公共技术服务中心,实现仪器设备的高效共享利用。
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