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2020SITRIDAY硅光技术分论坛暨首届光电子集成芯片立强论坛在上海举行

  

  1210日,2020 SITRI DAY硅光技术分论坛暨首届光电子集成芯片立强论坛在上海嘉定菊园会议中心召开。论坛由中国光学工程学会主办,中国科学院上海微系统与信息技术研究所、上海微技术工业研究院、上海市嘉定区国有资产经营(集团)有限公司联合承办。论坛由上海微技术工业研究院总经理丁辉文博士主持,来自高校、科研院所和产业界的超过300名嘉宾出席了此次论坛活动。

  中国科学院院士祝世宁,中国科学院上海微系统所与信息技术研究所法定代表人、副所长、上海微技术工业研究院董事长谢晓明研究员到会致辞,中国光学工程学会副秘书长邓伟出席了此次论坛。祝世宁院士对上海市在2017年就布局和上海微技术工业研究院克服重重困难建成的高水平、高标准硅光电子工艺平台表示祝贺,对本次论坛举办的重大意义给予了高度认可。谢晓明研究员介绍了上海微技术工业研究院建成的全国首条8超越摩尔More than Moore)研发中试线建设和运行情况。

  来自“光电子集成技术”领域各高校、科研机构及企业的专家学者和产业英才,围绕硅光电子技术集成软件设计工具、硅光电子技术集成工艺平台、光电子集成材料与工艺平台、硅基光子集成芯片封装技术等研究等最新进展作了主题报告,为与会者提供了新的技术思路和前沿信息,中国科学院上海微系统所与信息技术研究所研究员,上海微技术研究院高级副总经理、总工程师余明斌博士在此次立强论坛上隆重发布了硅光PDK1.0系统,该PDK可以为客户提供基于220nm SOI集成工艺的硅光无源器件库、完整的版图设计规则以及版图检查规则。他表示,到2021年,上海微技术研究院将建成90nm工艺节点的全套硅光工艺,可为客户提供更高器件性能、更全面的硅光芯片流片服务。

 

  “硅光技术”是上海微系统所重要科研方向之一,课题组在多年的SOI技术研究基础之上,不断加强原始创新与产业应用。随着SITRI DAY系列硅光技术论坛的成功举办,对加强产业交流和互动、进一步推动我国光电子集成芯片技术链的迭代升级、培育自立自强的光电子集成技术研发能力起到了重要的推动作用,意义重大。