10月29日上午，应第三研究室主任宋志棠研究员的邀请，美国应用材料公司（Applied Materials）CPI部(基于铜&PVD系统工程研究部门)CTO（技术总监） Jick M Yu访问微系统所。

宋志棠研究员首先向来宾介绍了微系统所在相变存储器等领域的工作。Jick M Yu对微系统所取得的成就表示赞赏。他表示，此次主动联系到微系统所是因为检索到微系统所发表的相变材料方面的诸多文章，认为微系统所在相变存储器研究中具有举足轻重的地位，并希望借此次机会双方能够在相变材料的制备方面开展积极的合作。

期间，应用材料Wei Wang博士做了两个专题的报告，介绍了应用材料公司在PVD、CVD、ALD方面的最新进展以及在相变材料GeSbTe方面的研究工作。

在随后的交流中，双方就学术问题、各自的优势以及合作展开了热烈的讨论，并对未来的合作研究工作提出了设想。

Jick M Yu表示双方要寻找切入点开展合作研究工作，并保持密切联系。