化合物半导体材料与工艺平台主要用于III-V族化合物半导体微结构材料生长及光电子、微电子器件工艺加工，包括4英寸双生长室分子束外延系统、气态源分子束外延系统、器件工艺加工线及材料器件测试分析系列设备。平台拥有的4英寸双生长室分子束外延系统是全球为数不多的III-V和硅锗集成外延系统，可实现4英寸单片/3x2英寸多片生长。平台拥有V90和V80两台气态源分子束外延生长系统，是世界上少数几家拥有III-V族气态源分子束外延系统的单位之一，可方便地进行磷化物生长。化合物半导体器件工艺平台拥有较完整的工艺加工设备，包含光刻、蒸发镀膜、等离子淀积/刻蚀和后道封装等，还根据设备的性能，开发改进了光刻、刻蚀等一系列单项工艺，为相关科研任务的完成提供了有效的半导体器件工艺服务。