简 介:主要用于晶片上凸点的制作,主要包括金凸点、焊料凸点和低成本焊料凸点的制作。
1.设备条件:
设备名称:AIT喷镀系统
槽数:2
基板尺寸:3~6″
膜层均匀性:<5%
2.电镀液:环保型无氰电解液。
3.凸点下金属化膜:Cr/Au、Ti/Au 、TiW/Au 。
4.凸点下金属化膜的腐蚀:电腐蚀和化学腐蚀。
5.金凸点高度:>20um。
6.金凸点尺寸:50×50um2。
7.金凸点表面状态:晶粒细小且光亮。
1.设备条件:
设备名称:AIT挂镀系统
槽数:3
基板尺寸:3~6″
膜层均匀性:<5%
2.电镀液:有机酸盐电解液。
3.凸点下金属化膜:Cr/Cu、Ti/Cu 、TiW/Cu 。
4.凸点下金属化膜的腐蚀:化学腐蚀和干法腐蚀。
5.焊料凸点高度:>50um。
6.焊料凸点尺寸:Φ100um 。
7.焊料凸点表面状态:光亮。
AIT喷镀系统

AIT挂镀系统
1.铝表面活化:用丙酮去除铝表面油污,在体积比为1:1的磷酸溶液(8%)和氟硼酸铵(2%)中去除铝表面的氧化层。
2.二次浸锌:在锌酸盐中一次浸锌后,用50%的硝酸溶液去除锌层,去离子水洗后,再进行二次浸锌。
3.化学镀镍:用水浴将化学镀镍溶液加热至90℃,将二次浸锌的晶片浸入化学镀镍溶液中,20分钟后,取出,去离子水洗。
4.浸金:用水浴将浸金溶液加热至70℃,将化学镀镍的晶片浸入浸金溶液溶液中,10分钟后,取出,去离子水洗,烘干。
5.焊料凸点的形成:用印刷的方法,在镍/金表面上印刷焊料,回流形成焊料凸点。
6.焊料凸点尺寸:Φ250um。