简 介：电子束蒸发光学膜系统是化合物半导体器件制作中的一种重要工艺技术；它是在高真空状态下由电子束加热坩埚中的膜系材料，使其熔融后蒸发到所需基片上形成光学膜。我们的电子束蒸发光学膜系统采用分子泵抽真空，其它设备情况如下：

蒸发室直径：φ650mm，可一次放置6片直径为100mm的基片；

基片旋转：载片台可行星式旋转；

电子枪功率： ~10千瓦可调；

蒸发速率：可由晶体振荡控制器调控；

蒸发膜厚：可由光学膜厚控制系统在线控制；

可蒸发金属膜AlO3, SiO2, SiO, Si,TiO2,MgF2,MgO等；

膜厚度误差 ≤±5%，膜厚均匀性误差 ≤±5%。

 

　　 常规提供的蒸发金属膜的服务如下：

薄膜材料	蒸发速率	厚度	厚度误差	均匀性误差
AlO3	5Å/s	~ 3000Å	<±5%	<±5%
SiO2	10Å/s	~ 5000Å	<±5%	<±5%
SiO	12Å/s	~ 3000Å	<±5%	<±5%
Si	4Å/s	~ 2000Å	<±5%	<±5%
TiO2	3Å/s	~ 2000Å	<±5%	<±5%
MgF2	14Å/s	~ 3000Å	<±5%	<±5%
MgO	6Å/s	~ 3000Å	<±5%	<±5%

  

电子束蒸发光学膜系统