聚焦离子束(FIB)双束系统

  

  

  生产厂商:美国 FEI公司 

  型号: Helios nanolab 600  

  仪器性能指标: 

  分辨率:0.9nm 

  电子束压:1kV——30kV 

  电子束流:1.3pA——22nA 

  离子加速高压:30kv 

  离子束流:1.5pA——21nA 

  离子束为液相金属离子源,金属材质为镓(Ga) 

  可实现加工: 

  高分辨成相、失效分析、透射(TEM)制样、原位电性能测试 

  样品原位加工,芯片电路修改、CPU 剖面结构、离子束对材料表面剥离加工; 

  聚焦离子束双束系统是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微切割仪器。诱导沉积材料通过聚焦离子束与化学气体配合直接将原子沉积到衬底材料表面,以不同的液态金属为源材料直接将原子沉积到衬底材料表面。目前商用系统的离子束为液相金属离子源,金属材质为镓(Ga),因为镓元素具有低熔点、低蒸气压及良好的抗氧化力。