原子层沉积

  

  

  生产厂商:芬兰倍耐克公司 

  型号: TFS500 

  仪器性能指标: 

  射频电源:Advanced Energy Cesar 133 13.56MHz 300W; 

  沉积温度:室温至450摄氏度; 

  厚度均匀性:<±5% 12英寸) 

  样品尺寸:12英寸 

  载气:氩气、氮气 

  等离子气体:氩气、氢气  

  反应气体:氨气、臭氧 

  具备3个固态源瓶,可通过温度来调节蒸发温度 

  具备2个液态源瓶,可通过针阀来控制流量 

  具备热反应腔体和等离子腔体 

  配备样品传输系统 

  原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应并形成沉积膜的一种方法(技术)。当前躯体达到沉积基体表面,它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。可以制备的材料Al2O3 HfO2TiO2SiO2TiNGe2Sb2Te5TiSb2Te3 等。