电子束蒸发镀膜

  

 

  生产厂家:瑞士Balzers 

  型号:UMS500P148 

  仪器技术指标:  

  进样室配备德国普发分子泵 

  日本真空前级泵 

  进样室极限真空:1×10-4Pa 

  镀膜室配备德国浦发分子泵 

  瑞士Balzers前级泵 

  镀膜室极限真空: 1×10-6Pa 

  可对腔体进行烘烤提升真空度 

  样品台加热温度: 室温--800°C 

  样品尺寸: <4英寸 

  配备两把电子枪 

  电子枪电压:6KV12KV 

  坩埚体积:48cm3 

  膜厚最小沉积厚度: 1nm 

  可通过晶振膜厚仪器在线监测原子级厚度 

  目前可制备薄膜种类: 

  Si Ge W Al Ni TiAuPdCGa 

  FeMoCrTaInCuAgSiO2Al2O3等合金 

  电子束蒸发是真空蒸镀的一种方式,它是在钨丝蒸发的基础上发展起来的。电子束是一种高速的电子流。电子束蒸发是目前真空镀膜技术中一种成熟且主要的镀膜方法,它解决了电阻加热方式中膜料与蒸镀源材料直接接触容易互混的问题。该方法可以蒸发高熔点材料,比一般 束流密度大、蒸发速度快,制成的薄膜纯度高、质量好,厚度可以较准确地控制,可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。电子束蒸发的特点是不会或很少覆盖在目标三维结构的两侧,通常只会沉积在目标表面。这是电子束蒸发和溅射的区别。常见于电阻加热蒸发热效率高、半导体科研工业领域。利用加速后的电子能量打击材料标靶,使材料标靶蒸发升腾。最终沉积到目标上。