因国家重大专项等研究工作需要，我所第二研究室（信息功能材料国家重点实验室）SOI项目组现招收原子层沉积（ALD）设备操作及维护工程师一名，具体要求如下：

主要工作职责：原子层沉积设备操作维护，以及薄膜材料生长技术优化。

要求：

1、40周岁以下，本科学历以上，身心健康；

2、有较强知识接受能力，可以阅读理解英文资料；

3、有操作化学气相薄膜沉积设备或者等离子体增强薄膜沉积设备三年以上经历者优先考虑；

请应聘者将个人简历投至soi@mail.sim.ac.cn，并在邮件主题中注明“姓名+学历学位+专业+工作年限）。如符合职位要求，我们会与收到简历后两周内与您联系。

截止时间：2011年1月31日。